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duv和euv技术区别

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发表于 昨天 13:43 | 显示全部楼层 |阅读模式
DUV是深紫外线【Deep Ultraviolet Lithography】，EUV是极深紫外线【Extreme Ultraviolet Lithography】。从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
双工, 深紫, 还可以

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